순수 텅스텐 미러

순수 텅스텐 미러순수 텅스텐 미러

순수 텅스텐 미러는 순수 텅스텐 제품을 거울처럼 연마하는 효과를 나타냅니다. 폴리싱은 금속 부품의 마무리에 일반적으로 사용되는 기술입니다. 종래의 기계적 폴리싱에서, 연마제 페이스트, 폴리싱 페이스트 또는 폴리싱 유체는 일반적으로 연마 구성 요소를 포함합니다. 전해 연마 경면 연마의 경우 전해질은 일반적으로 특수 첨가제 및 첨가제를 포함하는 질산 나트륨 형 중성 전해질입니다. 전해질의 조성은 양극 공정에 큰 영향을 미치고, 양극 공정의 변화는 전해 연마 거울 연마의 속도, 가공 정밀도 및 표면 품질에 영향을 미친다. 전해질의 전도도는 질산 나트륨의 농도가 감소함에 따라 급격히 떨어진다. 예를 들어 질산 나트륨의 농도가 200g / L에서 40g / L로 감소하면 전기 전도도는 0.17Ω-1cm-1에서 0.048Ω-1cm-1로 감소합니다. 전류 밀도를 높이기 위해서는 전압을 높이거나 갭을 줄여야하며, 전류 전원의 전압은 일반적으로 24V 이하이므로 크게 증가시킬 수 없습니다. 가공 갭은 가공 조건으로 인해 너무 작을 수 없습니다. 경면 연마 공정을 통해 텅스텐 제품 표면의 거칠기를 줄여보다 밝고 평평한 표면을 얻을 수 있습니다.

순수 텅스텐 미러 전해 연마 작업 매개 변수:

금속 전해질 조성물 음극 슬롯 헤드 전압/V 애노드 전류 밀도 A/dm² 온도 ℃ 연마 시간/min 비고
텅스텐 및 그 합금 10%수산화 나트륨+90%물 스테인레스 스틸 6 3~6 20 20~30 전해질 교반
수산화 나트륨 40g
암모늄 텅스텐 산염 40g
칼륨 퍼 클로로 메이트 0.5g
물             1L
납, 구리, 흑연 7   50  
나트륨 오르토 인산염 160g
水             1L
구리   9 44~55 10 초경합금 연마 용
불화 나트륨    7g
에탄올        30ml
물            70ml
  50 2 35~45  
2%수산화 나트륨 수용액   1~12     1~2  

 

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